1 前言
本标準由全國半導體設備和材料标準化技術委員氣體分會歸口。
本标準起草單位：上海華愛色譜分析技術有限公司、西南化工研究設計院、大連光明化工研究院。
随着微電子工業的迅速發展，廣大用戶對電子工業用三氯化硼的質量提出了更高更苛刻的要求。因此，重新修訂電子工業用三氯化硼的國家标準是我們必須要進行的一項具有深遠意義的重要工作。
2 标準技術内容
99年版标準未采用SEMI标準，2005年版的SEMI标準三氯化硼純度為99.9995%，規定得雜質含量是氯和金屬離子，不适宜采用。本次修訂根據三氯化硼的發展情況，參照了國外氣體公司的企業标準。現就有關采用情況說明如下：
2.1 分子量
93版标準采用的是1989年國際相對原子質量，現行的是2005年年國際相對原子質量，本次修訂采用2005年原子量，根據GB8170-1987《數值修約規則》計算所得。
2.2 技術指标的依據
國際半導體設備與材料組織（SEMI）制定的國際工業标準中，2005年版三氯化硼标準是：SEMI C3.33—92，三氯化硼99.9995%，雜質含量規定的是Cl2、COCl2、Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Ni、K、Si、Na。此标準不适合我國目前的國情，因此本次修訂沒有采用。
此次修訂參照了國外企業标準5N級産品技術指标，氧含量為1×10-6（V/V），其餘雜質含量和99版相同。
2.3 關于抽樣、判定和複驗
99版标準采用的逐一檢驗，此次修訂沒有變化。
99版标準未對采樣的具體要求和安全作規定，此次修訂增加了采樣具體要求和安全的規定，
2.4至少應達到的保存期限的規定
由于電子氣體的特殊性，此次修訂增加了對保存期限的規定，具體的指标參照SEMI C52-0301《特種氣體儲存期限》中的相關規定。三氯化硼至少應達到的保存期限：18個月。
2.5 關于檢驗方法
2.5.1 氮、氧含量測定：99版采用的是熱導和HID法，本次修定采用的是HID檢驗法，
（1）氦離子化檢測器是通用型的檢測器，該檢測器對除氦以外的所有組分均有響應。因此氦離子化氣相色譜儀的應用範圍十分廣泛，根據不同的應用範圍可以設計出不同的氣路流程。氦離子化包括放射源離子化、放電離子化和光離子化三種方式，三種電離方式不一樣，但結果都是使氦原子離子化，然後利用氦離子較高的電子電勢去電離目标組分。本标準采用的是放電離子化的方式。
（2）由于三氯化硼對分析的幹擾性，本标準采用了帶切割的氣路流程。
1——高純氦載氣鋼瓶； 2——鋼瓶減壓器； 3——穩壓閥；4——壓力表；5——淨化管；6——穩流閥；7——流量調節閥；8——流量計；9——檢測器；10——分析柱；11——切割閥；12——預分離柱； 13——六通閥； 14——過濾器； 15——定體積量管。